필드전위란(field potentials) 무엇인가?

유발전위에서 파형이 만들어지는 원리는 기본적으로 자극이 신경을 따라 전달되며 파형이 만들어집니다. 파형을 기록하기 위해 전극을 신경이 주행하는 경로를 따라 신경위에 전극을 부착합니다. 하지만 신체위에 올려 놓은 전극에서 파형을 기록하게 되므로 실제 신경이 아닌 곳에서 측정을 할 수 밖에 없는 구조입니다. 그래서 파형을 기록하는 채널을 구성할 때 파형의 양극과 음극이 가장 잘 만들어지는 부분에 전극을 부착하고 부착한 두 전극간의 전위차로 가장 큰 파형을 도출 해 낼 수 있습니다.

 

체성감각유발전위에서 말초신경전위(pheripheral potential)는 음양음의 통과전위이며, MNSEP의 N13, PTSEP에서 P31같은 피질하 전위(subcortex potential)인 C5s는 닫힌필드입니다.

모든 감각전위의 피질 파형은 신경의 말단에서 피질로 올라오는 전위로 두피에서 기록될때 양극파형을 보인다. PTSEP의 N45, middle latency BAEP의 N50, VEP의 P100. 예외적으로 MNSEP에서는 열린필드인N20이 형성됩니다.

청각유발전위에는 닫힌필드형태로 두피에서 양극으로 기록됩니다. 

 

근위필드와 원위필드

 

파형을 기록할 때 전위가 발생하는 근접부위에서 기록하는 근거리 전위(near field potential)와 떨어진 부위에서 기록하는 원거리 전위(far field potential)가 존재하는데 예를들면 신경전도검사와 뇌파검사는 전위의 발생부위와 파형을 기록하는 부위가 가까운 근접전위만을 기록하게 됩니다.

 

반대로 유발전위검사의 경우에서 살펴보면 시각유발전위는 근위필드전위, 청각유발전위는 원위필들전위, 체성감각유발전위는 기록되는 위치에 따라서 근위필드전위와 원위필들전위가 혼합된 형태입니다. 좀더 쉽게 말하자면 근위필드는 전위의 발생부위와 가깝게 전극위치해 있을때 측정이 잘됩니다. VEP검사가 O1, O2 부위가 아닌 LO, MO, RO에서 파형이 더 크게 측정되는 이유입니다. 근위필드전위는 진폭이 크고 전극배치에 매우 민감한 검사입니다. 기록전극의 위치가 약간만 변해도 진폭에 큰 차이를 보입니다.

 

반대로 원위필드전위는 발생기와 멀리 떨어진 곳에서도 기록이 됩니다. 원위필드전위는 진폭이 작고 기록 전극의 위치가 변해도 진폭과 파형의 모양이 크게 변하지 않는 특징이 있습니다.

대표적으로 청각유발전위검사는 A1, A2-Cz가 아닌 Fz나 Pz 에 기준전극이 위치해있거나 기록전극의 위치가 제자리가 아니도 파형은 기록될 수 있고, 체성감각유발전위의 피질하 전위 역시 전위가 만들어지는 부위와 기록전의 위치가 멀어도 전위를 측정할 수 있습니다. 청각유발전위의 II~V, 체성감각유발전위의 피질하전위가 대표적입니다.

 

 

원위필드전위는 파형이 작은 청각유발전위와 같은 검사에서 적용할 수 있는데 시각유발전위나 체성감각유발전위 보다 상대적으로 훨씬더 작은 진폭을 갖는 전위를 도출해 내는 방법으로 다른 검사에 비해 빠른 자극빈도와 많은 횟수의 평균화 과정이 필요하고 빠른 성분의 파형을 기록하기 위해 고주파 필터의 범위도 높게 설정야 합니다.